想要低价颠覆市场？维尔森发低价倾斜小屋

产品详情：北京维尔森科技发展有限公司是一家专业从事倾斜小屋、VR安全、地震屋等项目的企业。维尔森以严谨的工作态度、高质量产品和诚信共赢的经营宗旨与国内外客商合作。公司一直秉承“人才是企业之本，时刻不忘“质量就是生命”，不断开拓创新，力争把模拟地震品牌打造成具有国际竞争力的知名品牌。x218173n维尔森安全教

发布时间：2019年11月30日

产品价格：¥50000.00

北京维尔森科技发展有限公司

厂家直供退磁无磁不锈钢丸，低磁性钢丸

产品详情：品名：无磁不锈钢丸，退磁不锈钢丸，双无不锈钢丸，无磁无镍不锈钢丸特点：适用于电子元器件的抛丸需求“特立达”坚决贯彻“质量第一，用户至上”的经营理念，走品牌化发展的长期目标，不断追求完美，保证为用户提供优品质的产品，并于2018年通过ISO9001:2015质量体系认证，管理水平逐步规范，生产能力进一

发布时间：2019年11月20日

产品价格：电议

泰州特立达五金制品有限公司

高品质石材钢砂耐磨防锈防腐能力强，大理石花岗岩打磨专用钢砂

产品详情：泰州特立达可以为石材加工厂提供石材喷砂表面处理，大理石表面打毛，异型喷砂，粗糙面加工所用的磨料，高硬度、寿命长、耐循环，遇水不变色，不生锈，是加工石材的理想磨料。石材专用钢砂特点：硬度适中、韧性强、抗冲击，可连续多次反复使用，寿命长，反弹性好，抛毛速度快耗砂低，不破碎，清理石材凹凸均匀效果好，经本产

发布时间：2019年11月20日

产品价格：电议

泰州特立达五金制品有限公司

铸件增白增亮铝丸，纯铝丝切丸，抛丸机用铝丸磨料

产品详情：泰州特立达专业铝丸，铝合金丸厂家，所产铝丸（铝丝切丸，铝抛丸）外观光亮、圆柱状。应用于铝、锌或薄壁工件的表面喷抛处理，铝丸比重轻，硬度低，可以在不磨损产品的表面的同时进行抛，对工件表面具有显著的增白效果。铝丸的用途广泛，主要应用于汽车、飞机、造船、集装箱、机械制造、金属铸造、金属表面处理等行业，产品

发布时间：2019年11月20日

产品价格：电议

泰州特立达五金制品有限公司

厂家供应410/430/304不锈钢丸，不锈钢丝切丸，抛丸机用铸件清理磨料

产品详情：泰州特立达专业生产不锈钢丸，铝丸，石材专用钢丸，雾化钢丸，强化钢丸（高碳钢丸/低碳钢丸）,锌丸，铜丸及相应的金属丝，钢丝绳等产品，并在行业内具有主导优势，我们以其稳定的品质，高效的供货能力及优异的价格被广大国内外同行及客户所认同及接受。不锈钢丸应用范围：不锈钢铸件强化不锈钢铸件去毛刺铝合金压铸件清理

发布时间：2019年11月20日

产品价格：电议

泰州特立达五金制品有限公司

S660钢丸厂家直销

产品详情：1、清理：抛丸清理、喷丸清理、压铸件清理、铸件抛丸清理、锻件抛丸清理、锻件喷丸清理铸件清砂、钢板清理、钢材清理、钢板清理、H型钢清理、钢结构清理。2、除锈：抛丸除锈、喷丸除锈、铸件除锈、锻件除锈、钢板除锈、锻件除氧化皮、钢材除锈、H型钢除锈、钢结构除锈。3、强化：抛丸强化、热处理件喷丸强化、齿轮喷丸

发布时间：2019年11月01日

产品价格：电议

山东新增茂金属磨料有限公司

重庆去毛刺研磨石，抛光石（棕刚玉，树脂。高频瓷）价格

产品详情：高铝瓷研磨石产品特点：高铝质陶瓷,具有密度大,机械强度高,耐磨性能好,耐高温高压,吸水率低,化学性能稳定的特点.能经受酸,碱及其他有机溶剂的腐蚀,并能经受生产过程中出现的温度变化,是一种经济型,应用极为广泛的非金属研磨介质。产品说明：此种拋光石用于铝合金、锌合金、铜、树脂（塑料）等材质较软的产品表面

发布时间：2019年08月28日

产品价格：¥14.50

东莞市天亿研磨机械有限公司

塑料玩具表快速去合模线研磨机（PP, ABS PE）

产品详情：塑料玩具表快速去合模线研磨机（PP,ABSPE）塑料去合模线研磨机特点：1.外部静电喷塑,抗老化,抗酸,耐腐蚀.旋转盘与固定桶均为铝合金材料,重量轻,耐磨损。2.12边型内PU研磨槽,可产生强力的过流摩擦运动,提高加工效率(为防上超薄件附在桶壁上,也可采用锯齿形内壁的研磨槽)。3.变频器调速,可使转

发布时间：2019年08月24日

产品价格：¥14500.00

东莞市天亿研磨机械有限公司

厂家研发生产CMPPAD不锈钢、铝合金手机中框抛光垫

产品详情：铝合金、不锈钢中框镜面抛光皮CMPPAD系列抛光阻尼布用于对半导体晶片、铝合金、不锈钢等金属材料的半精抛或精抛，以获得没有缺陷的表面。型号厚度(mm)压缩比(%)SH-141.3014.3SH-080.8012.3SH-050.5010.6抛光垫规格项目具体内容参数抛光垫常用尺寸圆形片380mm圆形

发布时间：2019年08月19日

产品价格：¥16.00

东莞市欣帕得光电科技有限公司

硅片半导体抛光布、替代SUBA抛光垫

产品详情：CMPPAD硅片研磨抛光垫第一次硅片研磨抛光目的是去除硅片表面残留的机械损伤，一般要求从表面除去30um厚度。第二次硅片研磨抛光目的是去除第一次抛光在硅片表面留下的轻微损伤和云雾状缺陷，要求从表面除去2～3um。太阳能电池一般用第一次抛光即可。一般采用碱性二氧化硅胶体化学机械抛光工艺，依次对硅片进行

发布时间：2019年08月19日

产品价格：¥1200.00

东莞市欣帕得光电科技有限公司